در این مقاله عملکرد حفاظت از خوردگی همزمان لایه نازک خودمجتمع فتالوسیانین مس سولفونه شده (CuPh) با پوشش نانوساختار هیبریدی آلی- معدنی بر فولاد ساده کربنی در محلول اسیدی مورد بررسی قرار گرفت. سل هیبریدی از طریق هیدرولیز و تراکم اسید کاتالیست 3- متا اکریلوکسی پروپیل تری متوکسی سیلان (TMSM) و تترا اتوکسی سیلان (TEOS) در نسبت مولی 1:1 سنتز شد. مورفولوژی و ترکیب فولاد ساده کربنی با پوشش هیبریدی و لایه نازک خودمجتمع CuPh توسط SEM، EDX و FTIR بررسی گردید. عملکرد حفاظت در برابر خوردگی پوشش های هیبریدی در محلول 0.5 مولار هوادهی شده اسید کلریدریک توسط آزمون های پلاریزاسیون پتانسیوداینامیک و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) تحقیق شد. فیلم های خودمجتمع CuPh در زیر پوشش هیبریدی تاثیر قوی بر روی مقاومت به خوردگی پوشش هیبیریدی -وقتی نمونه 24 ساعت در محلول 1 میلی مولار CuPh غوطه ور شود- نشان داد. اضافه کردن بازدارنده به سیستم حفاظت از خوردگی، محافظت از فولاد ساده کربنی را تا %94 در محلول نیم مولار اسید کلریدریک بهبود بخشید. تحقیق حاضر نشان می دهد که این سیستم حفاظتی ضد خوردگی می تواند در محیط خورنده استفاده شود.

با استفاده از دستگاه "پرتابه مکتترون جریان یکسو " در درون پلاسمای آرگون، لایه های ایریدیم در روی زیر لایه ابر صیقل شده سیلیکا لایه گذاری گردید. اثر پارامترهای روش لایه گذاری در کیفیت ناهمواری لایه نیز مورد بررسی قرار گرفت. بعلاوه ثابت های اپتیکی لایه با استفاده از بیناب نمایی بیضی سنجی با زاویه متغیر در بازه طول موج فرابنفش تا میان فرو سرخ تعیین گردید. همچنین اندازه گیری میزان ناصافی سطح لایه بوسیله میکروسکپی نیروی اتمی انجام گرفت.

فلز مس به دلیل ویژگی های مطلوب مکانیکی و الکتریکی کاربردهای صنعتی بسیاری دارد. اگر چه فلز مس و آلیاژهای آن عموما به عنوان مواد مقاوم در برابر خوردگی شناخته شده اند، ولی با توجه به محیطی که در آن بکار گرفته می شوند، هنوز انواع گوناگونی از خوردگی را متحمل می شوند که عموما کاربرد عملی آن ها را محدود می کند. روشی موثر که می تواند این مشکل را حل کند، اصلاح سطح با استفاده از فیلم های لایه نازک خود مجموعه ساز است. تک لایه های خودمجموعه ساز سامانه های ساده و انعطاف پذیری هستندکه به عنوان یک لایه ایزوله عمل کرده و از نفوذ کلرید به سطح جلوگیری می کند. در این پژوهش، دو شیف باز N و N’ بیس (سالیسیدن) 1 و 3 پروپان دی آمین (شیف باز1) و N و N’ بیس (4 متوکسی سالیسیدن) 1 و 3 پروپان دی آمین(شیف باز2) به صورت لایه نازک خود مجموعه ساز به عنوان بازدارنده خوردگی مس در محلول اسیدکلریدریک 0.5 مولار سنتز و بازده بازدارندگی آن ها به وسیله آزمون های پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی، بررسی شد. نتایج آزمون پلاریزاسیون نشان داد که این تک لایه های خود مجموعه ساز به عنوان باردارنده های مختلط عمل می کند و هر دو فرآیند کاتدی و آندی را متوقف می سازد. افزایش قطر منحنی ها در اندازه گیری های امپدانس نشان می دهد که تک لایه ها به عنوان بازدارنده های خوبی عمل می کنند. نتایج بدست آمده از روش پلاریزاسیون و امپدانس از مطابقت مطلوبی برخوردارند و نشان می دهند که با افزایش غلظت بازدارنده، بازدارندگی تا 95 درصد افزایش می یابد. ورود گروه متوکسی در حلقه بنزن شیف باز نیز در کل باعث افزایش بازده بازدارندگی شیف باز شد که می تواند ناشی از اثرات دهندگی الکترون و اثرات آب گریزی این گروه باشد.